器件和材料实验生产线，洁净面积为1000平方米,洁净度为1000级（局部100级），设计月处理能力300～600片3寸晶圆。

◇NIKON I7 步进式光刻机（0.5 µm ）

◇MJB3光刻机（0.8 µm）

◇PECVD介质沉积设备

◇RIE反应离子刻蚀机

◇VPC-1100电子束蒸发台（4靶）

◇ICP-98C等离子体刻蚀机

StepperICP

RIE Ebeam Evaporator